1.硼源準(zhǔn)備

   BN源片初次使用前,應(yīng)按照使用說(shuō)明書(shū)進(jìn)行清洗,活化;再次使用的BN源片還應(yīng)活化,通常是 TAS5706BPAPR在硼擴(kuò)散溫度將其推至擴(kuò)散爐恒溫區(qū),通入氧氣1I'/min、約⒛min,換氮?dú)?.5I'/min、約10min,再將活化好的BN源片從爐中拉出放在爐口,待用。

   2陪片準(zhǔn)備

   用切片機(jī)(后面介紹)切割硼擴(kuò)散陪片,陪片大小為2.0mm×4.2mm。陪片和制造晶體管用硅片(正片)應(yīng)全同。陪片與正片一起清洗,烘干后,待用。

   3硅片清洗

   清洗一次光刻后的硅片,清洗方法和一次清洗有所不同,光刻后是用98%濃硫酸煮沸去膠,去除了光刻膠及其他有機(jī)油污,因此,無(wú)須再用甲苯等有機(jī)溶劑去油污。

   直接依次使用Dz 1、DZ 2洗液超聲波清洗各約511un,在兩種洗液超聲波清洗之間和之后,分別用冷、熱去超純水反復(fù)漂洗數(shù)遍,直至漂凈洗液的泡沫為止。硅片在電爐上或烘箱內(nèi)(1⒛℃)烘干,待用。注意:不可將濕硅片放置在有硼源的石英舟上,這樣硼源易受潮而變形、失效。硅片必須烘干后才能放入有硼源的石英舟上。