高寬比/圖形傾倒(aspect ratio/pattern∞llapse):高寬比之所以被討論是由于在顯影過程中,顯影液、SC1103CS去離子水等在顯影完了后的光刻膠圖形當(dāng)中會產(chǎn)生由表面張力形成的橫向的拉力,如圖7.39所示。對于密集圖形,由于兩邊的拉力大致相當(dāng),問題不是太大。但是,對于密集圖形邊緣的圖形,如果高寬比較大,便會受到單邊的拉力。加上顯影過程當(dāng)中較高速旋轉(zhuǎn)的擾動,圖形可能發(fā)生傾倒。實驗表明,一般高寬比 在3:1以上會比較危險。

   底部殘留(scumming):底部殘留原因一般為底部光刻膠對光的吸收不夠,而造成的部分顯影現(xiàn)象。為了提高光刻膠的分辨率,需要盡量減少光酸的擴散長度,而由于光酸擴散帶來的空間顯影均勻化便減少了。這樣,空間的粗糙程度加大了。底部殘留一般可以通過優(yōu)化照明條件、掩膜版線寬偏置(mask bias),以及烘焙溫度和時間,以提高空間像對比度,提高單位面積的曝光量來減少。