顆粒化學(xué)去除
發(fā)布時間:2017/11/5 17:35:39 訪問次數(shù):575
化學(xué)協(xié)助去除顆粒在很多濕法清洗中得到應(yīng)用。如標準清洗液l(sC1:氨水+雙氧水), TDA8541T溶液中雙氧水可直接氧化溶解較有機物膜或顆粒,而對于硅表面清洗,SC1使硅表面生成薄層氧化硅,又可少量溶解氧化硅,如此反復(fù),顆粒由大變小逐漸得到去除;還有HF濕法刻蝕氧化硅,使顆粒在膜層減薄同時一并去除,或顆粒產(chǎn)生底切合并外力去除等,如圖9,3所示。
化學(xué)協(xié)助去除顆粒在很多濕法清洗中得到應(yīng)用。如標準清洗液l(sC1:氨水+雙氧水), TDA8541T溶液中雙氧水可直接氧化溶解較有機物膜或顆粒,而對于硅表面清洗,SC1使硅表面生成薄層氧化硅,又可少量溶解氧化硅,如此反復(fù),顆粒由大變小逐漸得到去除;還有HF濕法刻蝕氧化硅,使顆粒在膜層減薄同時一并去除,或顆粒產(chǎn)生底切合并外力去除等,如圖9,3所示。
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