光刻區(qū)又稱為黃光區(qū),是半導(dǎo)體制造中最關(guān)鍵的加工步驟,使用的設(shè)備極其昂貴。光NE555DT刻目的是將光刻膠涂到晶圓表面后,使用受控的光線進(jìn)行曝光,在晶圓表面形成所需的圖形。實(shí)際上,光刻工藝是一系列工序的組合,包括涂膠、軟烘、曝光、顯影、堅(jiān)膜等8個(gè)工序。涂膠/顯影設(shè)備(Coatc〃D田e1opcr Track)是用來(lái)完成光刻的一系列加工設(shè)備的組合,是一種典型的多集束型裝各,也被稱為T(mén)rack系統(tǒng)。該系統(tǒng)首先對(duì)晶圓進(jìn)行預(yù)處理、涂膠、甩膠、烘干,然后用機(jī)械手將涂膠的晶圓送入對(duì)準(zhǔn)及曝光設(shè)各。步進(jìn)光刻機(jī)(steppcr)用來(lái)將晶圓和管芯圓形陣列對(duì)準(zhǔn)。在恰當(dāng)?shù)貙?duì)準(zhǔn)后,步進(jìn)光刻機(jī)先曝光晶圓上的一小片面積,然后步進(jìn)到硅片的下一塊區(qū)域并重復(fù)上述的步驟,直到在晶圓表面完成所有的曝光為止。 完成后,硅片回到涂膠/顯影設(shè)備對(duì)光刻膠進(jìn)行顯影,隨后清洗晶圓并再次烘干。