學(xué)鄰近效應(yīng)修正指的是在掩膜版L對(duì)于由衍射導(dǎo)致的曝光線寬偏差進(jìn)行修正,這里只做簡(jiǎn)單介紹。JG82870P2 SL8AM光學(xué)鄰近效應(yīng)修正分為基于規(guī)則的修正和基于模型的修正�；谝�(guī)則的修正(Rulc Based Optical Proximity Correction,RBOPC)是指建立一套與圖形周邊情況有關(guān)的規(guī)則,使得在規(guī)則滿是的情況下,按照規(guī)則定義的要求對(duì)圖形進(jìn)行修正。例如,可以有這樣的規(guī)則:當(dāng)100nm的線條的某一邊界距離下一個(gè)圖形的邊界的距離大于等于500nm,此邊界往外移動(dòng)10nm。

   規(guī)則的制定依賴于對(duì)一組定標(biāo)圖形的精確測(cè)定。一維的定標(biāo)圖形大多是一張線寬與槽寬的矩陣。對(duì)于任意的線寬與槽寬組合,基于對(duì)測(cè)試掩膜版上的定標(biāo)圖形在硅片上光刻膠投影圖形的測(cè)定,并且根據(jù)實(shí)際測(cè)量的尺寸與理想的尺寸之間的差值來(lái)決定修正量多少。對(duì)于二維的圖形,也可以建立一些定標(biāo)圖形,并且通過(guò)實(shí)驗(yàn)的測(cè)定來(lái)制定出修正量,這張表的線寬數(shù)據(jù)僅供示意用,不過(guò),它們代表的信息是準(zhǔn)確的。如果我們選擇第二行:線寬為100nm,它隨著槽寬的增加而減小.至刂達(dá)一個(gè)最小值后叉逐漸恢復(fù)一點(diǎn),最后穩(wěn)定在較大槽寬的地方:90nmc冉看第二列:槽寬為100nm,它隨著線寬的增加而減小(表中列出的現(xiàn)款數(shù)據(jù).槽寬=L+S一線寬),到達(dá)一定的線寬(如300nm),槽便不能夠被分辨(Mcrge)。但是,隨著槽寬變寬,第工、四、五列,槽Merge的情況逐漸好轉(zhuǎn)。所以我們不禁要問?為什么線與槽不對(duì)等?這是閃為:

   (1)光刻膠偏向線,也就是光刻膠是為孤立以及半孤立的線條優(yōu)化的。

   (2)系統(tǒng)使用了透射衰減掩膜版,它對(duì)線條的對(duì)比度增加有很大幫助,不過(guò),相移層的存在對(duì)相對(duì)孤立的槽的I藝窗口有很大損傷。

   (3)掩膜版上使用了正向的線寬偏置,使得系統(tǒng)需要有一點(diǎn)過(guò)度曝光來(lái)充分發(fā)揮偏向線的光刻膠的性能,而槽的光刻膠通常喜歡曝光不足。那么,有沒有對(duì)線、槽都平等對(duì)待的光刻膠?回答是:理論上能夠,但是實(shí)際屮很難制造。比如,對(duì)線的光刻膠,對(duì)光線不能做得太靈敏,否則,孤立的線條就會(huì)被過(guò)度曝光而大大縮小線寬,甚至發(fā)生圖形倒塌。如果曝光不過(guò)度,會(huì)使得在光刻膠邊緣產(chǎn)生殘留;同理,對(duì)槽的光刻膠必須做得很靈敏,否則對(duì)于孤立的槽或者接觸孔,無(wú)法形成足夠的曝光,造成圖形打不開。