除r工藝化學(xué)品以外，加工晶圓還需要大量的其他物質(zhì)與供給。這些物品必須滿足潔凈度要求。RT9166-12GVL記錄單、表格和筆記本都需要用無脫落表面的紙張或聚酯塑料制造。鉛筆是小允許使用的，鋼筆必須是不能擦去字跡的。計算機監(jiān)視器被用于維護記錄和工藝結(jié)果。

   晶圓儲存盒( FOUP)是由特殊的不產(chǎn)生微粒的物質(zhì)制造，運輸車與反應(yīng)管也是一樣的。、車輪與設(shè)備不使用潤滑油脂。在許多區(qū)域中，機械工具與工具箱要經(jīng)過清潔，并存放在凈化間里。

   凈化間的維護

   凈化間的定期維護是非常必要的。清潔人員必須要穿著與生產(chǎn)人員一樣的潔凈服，凈化間的清潔器具，包括拖把也要仔細選擇。一般家庭使用的清潔器具太臟，無法在凈化間使用。，而且使用真空吸塵器也要特別注意。在真空吸塵器中的排風(fēng)系統(tǒng)中，裝有HEPA過濾器，現(xiàn)在已經(jīng)可以在凈化間中使用。許多凈化間有內(nèi)置式真空系統(tǒng)來減少清潔時產(chǎn)生的臟東西。

   擦凈工藝工作臺需要使用特殊的不脫落的聚酯材質(zhì)或尼龍制成的抹布，預(yù)清洗以臧少污染。有些采用異丙醇和去離子水溶液，這些供給方便消除在凈化間噴涂清洗器引起的二次污染。    

   擦拭的程序也是非常關(guān)鍵的。墻面的擦拭要從上到下，桌面要從后向前。用噴壺噴灑的清潔劑，應(yīng)噴到潔凈布表面，而不是被清潔物表面。這樣可以減少在晶圓和設(shè)備上的不必要的過量噴灑。這樣凈化間的清潔本身也就成為支持半導(dǎo)體工藝的輔助技術(shù)。許多制造廠聘請外部認證公司27來確定潔凈等級、工作過程、程序文件與控制程序，并加以文件化。凈化問維護程序的認證標準是ISO全球凈化間標準(IS0  14644 -2)。

   銅金屬化已成為先進甚大規(guī)模集成電路器件的優(yōu)選金屬。銅有許多優(yōu)點（見第13章），也有一系列不足．j在硅晶圓內(nèi)部的銅污染會引起器件電性能的災(zāi)難。必須將銅工藝區(qū)和淀積銅到晶圓隔離開。要將隔離區(qū)和隔離工藝設(shè)備嚴格控制，以確保做過銅工藝的晶圓沒有進入其他工藝區(qū)。