原子力顯微鏡
發(fā)布時間:2015/11/11 19:08:32 訪問次數(shù):815
有些測量技術(shù)是多用途的,JS28F128J3F75A如掃描電鏡,在某一一范圍內(nèi), .項新的技術(shù)是原子力顯微鏡( Atomic F'orce Microscopy,AFlM)、它是一個觀測表面形貌的機器,能夠讓一個精密的平衡探針#j過表面(見圖14.28)。探針和表面分離很。ù蠹s2A)以至于表面和探測材料之間的原子力能影響到實際探測。探針在晶圓上移動時,精密的電f系統(tǒng)能測試探針的位置,所以可以繪制出表面的三維圖像17(見圖14. 29)
獲取最終圖像 對應(yīng)的高度(:)表格圖14. 28原子力顯微鏡(AFM)(源自:Semiconductor Intemational)
圖14. 29原子力顯微鏡(AFM)的表面乏維圖像
原子力顯微鏡敏感度在l A范圍內(nèi),并能在接觸和非接觸模式下實現(xiàn)操作。第一個原子力顯微鏡產(chǎn)品于1990年問世,它的投影儀圖成為其檢測寶庫中不可缺少的一部分。,原子力顯微鏡的特性包括:表征顆粒尺寸、探測顆粒、測量表面粗糙度,以及提供所有三維關(guān)鍵尺寸測量。一種創(chuàng)新的用法是原子力顯微鏡探針和光學顯微鏡物鏡相結(jié)合。
有些測量技術(shù)是多用途的,JS28F128J3F75A如掃描電鏡,在某一一范圍內(nèi), .項新的技術(shù)是原子力顯微鏡( Atomic F'orce Microscopy,AFlM)、它是一個觀測表面形貌的機器,能夠讓一個精密的平衡探針#j過表面(見圖14.28)。探針和表面分離很。ù蠹s2A)以至于表面和探測材料之間的原子力能影響到實際探測。探針在晶圓上移動時,精密的電f系統(tǒng)能測試探針的位置,所以可以繪制出表面的三維圖像17(見圖14. 29)
獲取最終圖像 對應(yīng)的高度(:)表格圖14. 28原子力顯微鏡(AFM)(源自:Semiconductor Intemational)
圖14. 29原子力顯微鏡(AFM)的表面乏維圖像
原子力顯微鏡敏感度在l A范圍內(nèi),并能在接觸和非接觸模式下實現(xiàn)操作。第一個原子力顯微鏡產(chǎn)品于1990年問世,它的投影儀圖成為其檢測寶庫中不可缺少的一部分。,原子力顯微鏡的特性包括:表征顆粒尺寸、探測顆粒、測量表面粗糙度,以及提供所有三維關(guān)鍵尺寸測量。一種創(chuàng)新的用法是原子力顯微鏡探針和光學顯微鏡物鏡相結(jié)合。
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