圖13,11總結(jié)了MEE「隨著熱點(diǎn)兩條不相容邊緣之間的CD距離變化而變化的曲線。SAA7111AHZ這個(gè)圖指出當(dāng)CD距離小于100nm,就會(huì)產(chǎn)生OPC不相容邊緣。而對(duì)于這種熱點(diǎn)圖形的距離上的約束條件就會(huì)成為DFM巾M1層進(jìn)行光刻友好設(shè)計(jì)的準(zhǔn)則。通過后OPC驗(yàn)證的熱點(diǎn)MEEF分析,我們發(fā)現(xiàn)存在一些客戶設(shè)計(jì)的關(guān)鍵層中存在著OPC不相容邊界的圖形。而且ΘPC不相容邊界能通過計(jì)算OPC前和OPC后的MEEF檢測(cè)出來。我們提出并驗(yàn)證了OP(l不相容邊界圖形的檢測(cè)方法,這個(gè)方法被應(yīng)用到實(shí)際的生產(chǎn)屮用來過濾掉那些來白后OPC驗(yàn)證的對(duì)工藝波動(dòng)敏感的熱點(diǎn)。隨著積累檢測(cè)到的OPC不相容邊界熱點(diǎn)圖形到一個(gè)圖形庫中,一個(gè)采用圖形搜索技術(shù)的快速圖形篩選方法有可能應(yīng)用到新的設(shè)計(jì)中,在進(jìn)行ΘPC之前用來檢測(cè)并修正OP(l不相容邊界圖形c現(xiàn)在提出的MEE分析方法可以很容易地用到其他的應(yīng)用領(lǐng)域,例如,多種OPC比較、(FC熱點(diǎn)修正驗(yàn)證、(,PC熱點(diǎn)檢測(cè)和掩模制造T藝的跟蹤等。我們會(huì)把這個(gè)工作流程擴(kuò)展到其他的應(yīng)用巾去。這個(gè)MEEF分析方法。J以對(duì)一個(gè)已知熱點(diǎn)做系統(tǒng)化的研究,同時(shí)在現(xiàn)有方法的基礎(chǔ)L.采用另外一種方式建立D「M規(guī)則。這會(huì)使得DFM規(guī)則更加完備。