FIB系統(tǒng)主要由離子源、離子光學(xué)SCA100T-D01系統(tǒng)、二次粒子探測(cè)器、真空系統(tǒng)和輔助氣體系統(tǒng)組成。商用機(jī)型有單束(single beam)和雙束(dual beam,離子束+電子束)兩類。日前商用系統(tǒng)的離子源為液相金屬離子源(I'iquid MetaH冫0n Source,I'MIS),金屬材質(zhì)為鎵(Gallium,Ga),因?yàn)殒壴鼐哂械腿埸c(diǎn)、低蒸氣壓及良好的抗氧化力。離子光學(xué)系統(tǒng)主要包括聚焦成像的靜電透鏡系統(tǒng)、束對(duì)中器、消像散器、質(zhì)量分析器和束偏轉(zhuǎn)器等。輔助氣體系統(tǒng)指在FIB中通人不同種類的輔助氣體,可以實(shí)現(xiàn)以下兩種主要的用途:①輔助氣體刻蝕:通人某些反應(yīng)氣體,如C12、I2、Br2等,就能改變靶材表面的束縛能,或者直接與靶材表面起化學(xué)反應(yīng),從而大大提高離子束的濺射產(chǎn)額。②誘導(dǎo)沉積:根據(jù)要求沉積的材料不同,選擇不同的誘導(dǎo)氣體,如W(CO)6、WF6、Al(CH3)3等。誘導(dǎo)氣體以單分子層的形式吸附在固體材料表面9人射離子束的轟擊致使吸附氣體分子分解,將金屬材料留在固體表面。商用FIB系統(tǒng)常用的氣體輔助氣體沉積導(dǎo)體如鎢或白金,在IC失效分析中主要用于金屬線連接、測(cè)試鍵生長(zhǎng)。