CVD系統(tǒng)有著多種多樣的設(shè)計(jì)和配置。通過基本子系統(tǒng)的通用性分析，有助于對(duì)大部分CVl)系統(tǒng)多樣化的理解（見圖12.9）。大部分CVD系統(tǒng)的基本部分是相同的，G526-2P1UF如管式反應(yīng)爐（已在第7章中描述）、氣源柜、反應(yīng)室、能源柜、晶圓托架（舟體），以及裝載和卸載機(jī)械裝置。在某些情況下，CVD系統(tǒng)則是一種專用的預(yù)氧化和擴(kuò)散的管式反應(yīng)爐．，化學(xué)氣源被存儲(chǔ)在氣源柜內(nèi)。蒸氣從壓縮的氣體瓶或液體發(fā)泡源中產(chǎn)生。氣體流量通過調(diào)壓器、質(zhì)量流量計(jì)和計(jì)時(shí)器共同控制.

   實(shí)際的淀積發(fā)生在反應(yīng)室內(nèi)的晶圓上。加熱用的能量呵通過熱傳導(dǎo)、對(duì)流、射頻、輻射、等離子體或紫外線等來提供。能量釋放在特定的相關(guān)部位。對(duì)于不同的反應(yīng)，不同的薄膜厙度及制造參數(shù)，溫度的變化范圍町從室溫到1250℃。

   系統(tǒng)的第4部分是晶圓托架，、反應(yīng)室配置及熱源不同，托架的構(gòu)造和材料也不同．大多數(shù)用于制造甚大規(guī)模集成電路( ULSI)的系統(tǒng)全部采用自動(dòng)化的裝載和卸載系統(tǒng)。完整的生產(chǎn)系統(tǒng)還包含了相應(yīng)的清洗部分或清洗臺(tái)和裝卸片區(qū)。