隨著工藝技術(shù)的發(fā)展,DFM愈發(fā)成為進(jìn)行成功芯片制造和提高良率的關(guān)鍵。SY88903VKC在現(xiàn)在32nm或者更高級的設(shè)計中,雖然設(shè)計構(gòu)架、功能、時序和功耗還是成功設(shè)計的條件,但是DFM也已經(jīng)毫無疑問地成了一個新的、實在的成功沒計條件。沒有經(jīng)過DFM,就沒有成功的流片。然而,在32nm及以下的技術(shù)節(jié)點,DFM還有新的技術(shù)挑戰(zhàn)。其中最大的挑戰(zhàn)是從基于DFM模型的計算機(jī)程序中得到所有的熱點變得越來越困難。產(chǎn)生這個問題的根本原因是熱點變得非常復(fù)雜而且彼此關(guān)聯(lián)性很強(qiáng),以至于沒有一個計算機(jī)程序能夠模擬所有的工藝波動。

   我們發(fā)現(xiàn)最合理和最有效的方法是使用DFM熱點圖形庫來增強(qiáng)傳統(tǒng)DFM模型的不足之處。在圖13.16中,上半部分是我們提出的獲得DFM熱點集合的方法;下半部分是其他半導(dǎo)體公司已經(jīng)提出的方法,仍然有效。不同于DFM模型,圖形庫的建立完全是通過收集導(dǎo)致威脅工藝窗的版圖圖形而形成的。它們中的一部分能夠被DFM模型產(chǎn)生,另一部 分并非來白于任何模型,而是借助圖形軟件收集硅片上的測量數(shù)據(jù)。我們把這個過程在圖13.17中顯示出來。圖13,18給出了這些DFM熱點庫的應(yīng)用。使用高效和精確的圖形l’E配程序,DFM軟件能夠通過檢查設(shè)計并找到和預(yù)先定義的熱點圖形匹配的圖形。