襯底濃度的過分提高會使載流子的有效遷移率減小,使漏和源PN結的寄生電容增大, HCNR200-000E還會帶來體效應的增大,這是應該避免的。在按比例縮小的理論中,提高襯底濃度的目的,是要使耗盡層寬度按比例縮小。但是只有耗盡層的橫向寬度才是防止穿通的主要參數(shù),而這種耗盡層的橫向擴展可以通過溝道離子注入改變溝道表面濃度而得到控制,并無必要改變體襯底濃度。假定注入劑量不變,而注入深度按比例縮小,貝刂表面濃度按比例增大,襯底的摻雜濃度就可以不變。在實踐中,由于注入以后還有一系列的熱處理過程,要按比例縮小注入的深度是困難的,但顯然襯底濃度并不需要按CE及CV理論要求以很大的比例增大。

   采用計算機輔助技術,開發(fā)適當?shù)哪M程序,可以在確定的溝道長度、結深及電源電壓的條件下,通過選擇柵氧化層厚度、溝道注入濃度及襯底濃度,達到器件的閾值電壓、驅動電流及速度的設計指標,并把短溝道效應(如閾值電壓的下降亞閾電流的升高)限制在可接受的范圍內。再由可靠性的要求(如襯底電流的數(shù)值)修正電源電壓,直到高性能及高可靠性的要求均能達到為止。這個方法比較準

確,但也較復雜。更為簡便的方法是研究類似CE、CV的簡單明了的縮小理論,使電源電壓的值滿足閾值電壓可控及高場效應足夠小兩方面的要求。這就是按比例縮小的準恒定電壓(QCV)理論及其他的一些修正理論。

   準恒定電壓等比例縮小規(guī)則是對CE規(guī)則和CV規(guī)則的折中,它使工藝尺寸和電壓分別按不同的比例因子進行縮小,以獲得一個比較滿意的結果。準恒定電壓等比例縮小規(guī)則為解決各類問題提供了一種可行的方案,因而在實際中得到了較好的應用。